Pastilha Epitaxial Semicondutora III-V | Grupo Power Wafertech

Pastilhas Epitaxiais Semicondutoras III-V

Pastilha Epitaxial Semicondutora III-V

A PWG oferece soluções epitaxiais baseadas em substratos InP, GaSb e GaAs, abrangendo heteroestruturas para HEMTs, pHEMTs, HBTs, diodos laser, fotodetectores, VCSELs, detectores infravermelhos e outros dispositivos III-V.
  • Substrato InP, GaSb e GaAs
  • Método de Crescimento MOCVD e MBE
  • Especificações Padrão, personalizado
  • Tipo de epi HEMT / pHEMT / HBT / LD / VCSEL / fotodetector / T2SL etc.
  • Embalagem Cassete de wafer único, selado a vácuo
Especificações Detalhadas

Especificações publicadas por diâmetro de pastilha.

Select a diameter to review the corresponding published specification set.

Sistema de MateriaisEstrutura TípicaPropriedades PrincipaisAplicações Primárias
InGaAs/InPDetector de Pinos/APD Canal HEMTAlta mobilidade eletrônica Absorção em 1,3-1,55μmReceptores ópticos de alta velocidade, mmWave HEMTs
InGaAsP/InPEstruturas de Múltiplos Poços Quânticos a LaserComprimento de onda sintonizável com gap de banda diretoLasers DFB, EMLs, moduladores de eletroabsorção (EAM), amplificadores ópticos
InAlAs/InGaAs/InPHeteroestrutura 2DEGGanho melhor, menor ruído, maior eficiência energéticaHEMTs e HBTs ultra-rápidos
Aplicações

Onde essa pastilha entrega valor

01

InGaAs/InP

Receptores ópticos de alta velocidade, mmWave HEMTs | Estrutura típica: Canal HEMT do Detector de PIN/APD | Principais Propriedades: Alta mobilidade de elétrons Absorção em 1,3-1,55μm

02

InGaAsP/InP

Lasers DFB, EMLs, moduladores de eletroabsorção (EAM), amplificadores ópticos | Estrutura Típica: Múltiplas Estruturas de Poços Quânticos | Propriedades Chave: Comprimento de onda ajustável com gap de banda direto

03

InAlAs/InGaAs/InP

HEMTs e HBTs ultra-rápidos | Estrutura típica: heteroestrutura 2DEG | Principais Propriedades: Ganho melhor Menor ruído Maior eficiência energética

04

InAs/GaSb (superrede Tipo-II)

MWIR & LWIR Imaging de Alto Desempenho | Estrutura Típica: Estruturas do Detector IR T2SL | Propriedades Chave: Cobertura espectral ampla (extensível >14μm)

05

InGaAsSb/GaSb, AlGaAsSb/GaSb

Lasers de infravermelho médio para detecção de gases | Estrutura Típica: Estruturas de Poço Quântico a Laser | Principais Propriedades: Banda proibida direta, emissão do infravermelho médio

06

Estruturas termofotovoltaicas (TPV) baseadas em GaSb

Células TPV | Estrutura típica: Estrutura PIN | Propriedades Chave: Conversão de Energia de Alta Eficiência

07

AlGaAs/GaAs

HEMTs RF 5G/6G, Diodos a Laser (LDs) de Infravermelho Próximo | Estrutura típica: Poços Quânticos, Heteroestruturas | Propriedades Chave: Alta mobilidade eletrônica Banda proibida direta

08

InGaP/GaAs

Amplificadores de Potência RF (HBTs) | Estrutura Típica: Estruturas HBT | Principais Propriedades: Alta tensão de ruptura Alta eficiência

09

InGaAs/GaAs (Camada de Deformação)

LNAs mmWave, interruptores de alta velocidade | Estrutura Típica: Estruturas pHEMT | Principais Propriedades: Mobilidade e velocidade de elétrons muito altas

10

AlGaInP/GaAs

Diodos emissores de luz (LEDs) de alta luminosidade Vermelho, Amarelo e Laranja | Estrutura Típica: Múltiplas Estruturas de Poços Quânticos | Propriedades Chave: Espectro vermelho-amarelo de banda direta

11

GaAs de Baixa Temperatura (LT-GaAs)

Antenas fotocondutivas de terahertz, fotodetectores ultra-rápidos | Estrutura típica: Camada de GaAs cultivado em baixa temperatura (LTG-GaAs) | Principais Propriedades: Resistividade ultra-alta Vida útil do portador ultra-rápido

FAQ

Perguntas comuns sobre este produto

Respostas rápidas sobre seleção de materiais, personalização, testes e pedido.

Por favor, forneça o material do substrato, diâmetro da pastilha, orientação do cristal, estrutura da camada, espessura da camada, composição, requisitos de doping, quantidade e dispositivo alvo.

Sim. Se você não tiver uma estrutura de camada finalizada, nossa equipe técnica pode discutir o dispositivo alvo, comprimento de onda, frequência ou requisitos de desempenho e recomendar uma estrutura epitaxial adequada.

Sim. Podemos personalizar composição de camadas, espessura, doping, estruturas de poço quântico, camadas de tampão, camadas de capa e designs de superrede de capas.

Investigação Técnica

Converse com engenheiros sobre suas necessidades de pastilhas

Compartilhe seu material, dimensões, especificações, estágio de aplicação ou projeto. Nossa equipe analisará suas necessidades e responderá em um dia útil.

Resposta liderada pela engenharia

As consultas são encaminhadas para a equipe técnica ou comercial apropriada.

Endereço

Nº 1389, Rua Lianmei, Zona Industrial Lianhua, Tong'an, Xiamen, Fujian 361100, China

Telefone

+86-592-5633652

Upload do Arquivo
E-mailvictorchan@powerwafertech.com Telefone+86-592-5633652