Modelo GaN | Grupo Power Wafertech

Pastilhas GaN

GaN Template

O molde de GaN da PWG refere-se a camadas epitaxiais de GaN de alta qualidade cultivadas sobre substratos de safira, silício ou SiC. Fornecendo uma plataforma econômica e pronta para epinefria para o crescimento subsequente do GaN e fabricação avançada de dispositivos.
  • Opções de substrato — safira, silício ou SiC
  • Condução da camada epicamada de GaN — Tipo N (dopado com Si), tipo P (dopado com Mg) e semi-isolante (dopado com Fe)
  • Espessura da Epi — 1μm a 100μm (personalizável)
  • Qualidade cristalina — Densidade de discordâncias <1×10⁸cm⁻² (na safira)
  • Opções de material estendido — Modelo AlGaN, Template InGaN
  • Acabamento superficial — Epi-ready
  • Embalagem — Cassete de wafer único, selado a vácuo
Especificações Detalhadas

Especificações por tipo de pastilha.

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Item Modelo GaN-on-Sapphire (GaN-on-Al₂O₃)
Substrato Safira
Diâmetros 2 polegadas (50,8mm), 3 polegadas (76,2mm), 4 polegadas (100mm) e 6 polegadas (150mm)
Acabamento de superfície Epi-ready, polido de um ou dois lados
Rugosidade da Superfície Ra
Epicamada GaN Epicamada GaN
Tipos de condução Tipo N (dopado com Si), tipo P (dopado com Mg) e Semi-isolante (dopado com Fe)
Faixa de espessura 4μm a 100μm, personalizável
Densidade de discordâncias tipicamente
Resiliência • Tipo N: 1×10⁶Ω·cm
XRD FWHM de (002)
XRD FWHM de (102)

Aviso de Controle de Exportação

A exportação desse produto é regulamentada pelo Ministério do Comércio da RPC (MOFCOM). Uma licença de exportação deve ser obtida antes do envio.

Aplicações

Onde essa pastilha entrega valor

01

Eletrônica de Potência

Uma plataforma ideal para dispositivos de comutação de alta e alta potência, incluindo HEMTs de energia GaN-on-Si para carregadores rápidos, trens de força para veículos elétricos e fontes de alimentação para data centers.

02

RF & Comunicações

Os templates GaN são ideais para módulos front-end de RF de alta frequência, infraestrutura 5G/6G e amplificadores de potência mmWave que exigem alta mobilidade eletrônica e estabilidade térmica.

03

Optoeletrônica & Micro-LED

Aplicado no crescimento epitaxial de emissores de LED azul e verde, diodos a laser (LDs) e telas Micro-LED de próxima geração. Possibilitando estruturas avançadas de InGaN/GaN MQW para emissão de luz de alta eficiência.

04

UV & Sensores

Para fabricar fotodetectores UVC/UVA, sensores UV cegos ao sol, e dispositivos químicos/biosensores que exigem alta qualidade cristalina e baixa densidade de defeitos.

FAQ

Perguntas comuns sobre este produto

Respostas rápidas sobre seleção de materiais, personalização, testes e pedido.

Sim. Os moldes de GaN são projetados principalmente como plataformas prontas para epi-epineto subsequente para epitaxia de GaN ou III-nitreto relacionada, ajudando a simplificar o processo de crescimento e fornecer uma superfície cristalina controlada.

Sim. Além dos templates GaN, o PWG pode fornecer templates de AlGaN e InGaN para aplicações que exigem engenharia de banda proibida, especialmente dispositivos avançados de UV, luz visível e outros dispositivos optoeletrônicos.

Um molde de GaN consiste em uma fina camada epitaxial de GaN cultivada sobre um substrato estrangeiro (por exemplo, safira ou Si), oferecendo uma plataforma econômica para o crescimento do dispositivo. Um substrato de GaN independente é uma pastilha de GaN em grande volume com o substrato estranho removido, proporcionando a mais alta qualidade cristalina e desempenho térmico para dispositivos de alto nível.

Sim. O PWG é amigável a P&D com MOQ flexível para prototipagem. Suportamos personalização rápida da espessura do epi, doping e tipos de substrato para atender às necessidades do seu dispositivo.

Investigação Técnica

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